Принципы технического проектирования керамических обогревателей дальнего инфракрасного диапазона
Оценка качества системы обогрева в дальней инфракрасной области в основном зависит от того, основано ли отопление на лучистом обогреве, дополненном кондуктивным и конвекционным обогревом. Чем больше доля лучистого отопления, тем лучше производительность системы.
После того, как работники, работающие в дальней инфракрасной области спектра, измерили и теоретически изучили эффективность преобразования тепловой энергии в большом количестве сушильных туннелей и печей в дальней инфракрасной области. В середине 80-х годов прошлого века были предложены два метода определения туннеля для радиационной сушки: первый - измерение температуры пространства внутри сушильного туннеля и температуры поверхности элемента. Только когда T space< t="" element="" 20="" ～="" 40="" ℃,="" сушильный="" туннель="" называется="" радиационным="" сушильным="" туннелем.="" когда="" он="" соответствует="" условиям="" энергосбережения="" в="" дальней="" инфракрасной="" области,="" ее="" называют="" сушильным="" туннелем="" в="" дальней="" инфракрасной="" области.="" второй="" -="" изменить="" режим="" потока="" на="" статическое="" запекание.="" если="" нет="" неровностей="" лакокрасочной="" пленки="" (разницы="" в="" цвете),="" это="" можно="" назвать="" туннелем="" радиационной="" сушки,="" иначе="" это="" нельзя="" назвать="" дальним="" инфракрасным="">
Дальний инфракрасный керамический обогреватель оптом
Принципы проектирования технологии обогрева в дальней инфракрасной области
После многих лет исследований и практических обсуждений ученые суммировали следующие три принципа проектирования сушильных туннелей и печей в дальней инфракрасной области спектра:
(1) Конструкция с однородным полем излучения: конструкция с однородным полем излучения направлена на то, чтобы энергия излучения, принимаемая поверхностью заготовки, была однородной независимо от того, где она движется. В конструкции однородного поля излучения используется принцип радиационной оптики для расчета набора данных, а именно: расположение элементов, расстояние между элементами, форма отражателя, расстояние до элемента и детали. Чтобы избавиться от качественной конструкции 100-350 мм между компонентами и 50-400 мм между компонентами и заготовками.
(2) Конструкция с однородным температурным полем: для предотвращения разрушения однородного температурного поля в сушильном туннеле, разница температур между верхним и нижним левым и правым уголками сушильного туннеля должна поддерживаться на уровне ± 5 ～ 10 ℃.
(3) Единая конструкция технологии контроля температуры: двухпозиционное регулирование температуры приводит к большим локальным колебаниям температуры. Регулировка напряжения тиристором уменьшит излучение компонента и увеличит эффект конвекции. Применение регулятора мощности для контроля температуры доводит технологию дальнего инфракрасного диапазона до совершенства.